HITACHI HIGH-TECH CORPORATION的所有權人共 33 筆商標,3 筆分類

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HITACHI HIGH-TECH CORPORATION (33)
HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION (1)
HITACHI HIGH-TECH ANALYSIS CORPORATION (1)
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註冊日期▼ | 專用期限

圖案	商標資訊
(文字:LABFLEX)	LabFLEX 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02466840 申請案號 113068186 代理人名林志剛註冊日期 2025-7-1 專用期限 2035-6-30
(文字:NANOSLYNX)	NANOSLYNX 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02413645 申請案號 113005241 代理人名林志剛註冊日期 2024-11-1 專用期限 2034-10-31
(文字:NSTREAM)	NSTREAM 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02413646 申請案號 113005242 代理人名林志剛註冊日期 2024-11-1 專用期限 2034-10-31
(文字:LABOSPECT PLANET)	LABOSPECT PlaNet 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02376921 申請案號 111091189 代理人名林志剛註冊日期 2024-5-16 專用期限 2034-5-15
(文字:LABOSPECT)	LABOSPECT 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02376922 申請案號 111091190 代理人名林志剛註冊日期 2024-5-16 專用期限 2034-5-15
(文字:COVISIONVX)	CovisionVX 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02338756 申請案號 112016143 代理人名林志剛註冊日期 2023-12-1 專用期限 2033-11-30
(文字:MARTIPORT)	MartiPort 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02263965 申請案號 110090321 代理人名林志剛註冊日期 2022-11-16 專用期限 2032-11-15
(文字:EXTOPE)	ExTOPE 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02197994 申請案號 109089638 代理人名林志剛註冊日期 2022-1-16 專用期限 2032-1-15
(文字:EXTOPE)	ExTOPE 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02160198 申請案號 109063231 代理人名林志剛註冊日期 2021-8-1 專用期限 2031-7-31
(文字:ABSCATTER)	Abscatter 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02129411 申請案號 109044632 代理人名林志剛註冊日期 2021-3-16 專用期限 2031-3-15
(文字:RAXIO)	RAXIO 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 02061849 申請案號 108066408 代理人名林志剛註冊日期 2020-6-1 專用期限 2030-5-31
(文字:HYBEAT)	HyBEAT 商標權人日立製作所股份有限公司,日立先端科技股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA HITACHI SEISAKUSHO (ALSO TRADINGS AS HITACHI, LTD.),HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01932042 申請案號 107008584 代理人名陳長文,林志剛,李文傑註冊日期 2018-8-16 專用期限 2028-8-15
(文字:ETHOS)	Ethos 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01905204 申請案號 106033542 代理人名林志剛註冊日期 2018-4-1 專用期限 2028-3-31
(文字:IMPACT)	IMPAct 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01881459 申請案號 106016833 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2017-11-16 專用期限 2027-11-15
(文字:MIRELIS)	Mirelis 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01853671 申請案號 105055624 代理人名林志剛註冊日期 2017-7-16 專用期限 2027-7-15

(文字:ALLOVA)	ALLOVA 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01698944 申請案號 103040206 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2015-4-1 專用期限 2035-3-31
(文字:NANO SHIELD)	Nano Shield 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本東京都港區虎之門一丁目17番1號註冊編號 01662275 申請案號 101045392 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2014-9-1 專用期限 2034-8-31
	L device 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01651310 申請案號 102053623 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2014-7-1 專用期限 2034-6-30
(文字:ZONETEM)	ZONETEM 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01601415 申請案號 101056307 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2013-10-1 專用期限 2033-9-30
(文字:ZONESEM)	ZONESEM 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01601416 申請案號 101056308 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2013-10-1 專用期限 2033-9-30
(文字:SEBIT)	Sebit 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01533457 申請案號 100066714 代理人名林志剛註冊日期 2012-9-1 專用期限 2032-8-31
(文字:RECIPEDIRECTOR)	RecipeDirector 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01519337 申請案號 100028849 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2012-6-1 專用期限 2032-5-31
(文字:J-LYNX)	J-Lynx 商標權人日立先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01478730 申請案號 099050154 代理人名林志剛註冊日期 2011-10-16 專用期限 2031-10-15
(文字:REGULUS)	Regulus 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01451582 申請案號 099033402 代理人名李文傑,陳長文註冊日期 2011-2-1 專用期限 2031-1-31
(文字:FLATMILLING)	FLATMILLING 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01386756 申請案號 097027141 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2009-11-16 專用期限 2029-11-15
(文字:NANOEBAC)	nanoEBAC 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01383462 申請案號 097018913 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2009-11-1 專用期限 2029-10-31
(文字:NANODUE'T)	nanoDUE'T 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01255921 申請案號 095013141 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2007-4-1 專用期限 2027-3-31
(文字:NANOART)	nanoart 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01230098 申請案號 095006334 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2006-9-16 專用期限 2026-9-15
(文字:LABOSPECT)	LABOSPECT 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01198872 申請案號 094009653 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2006-3-1 專用期限 2036-2-29
(文字:LABOSPECT)	LABOSPECT 商標權人日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 地　　址日本註冊編號 01181132 申請案號 094009651 代理人名陳長文,李文傑註冊日期 2005-11-16 專用期限 2035-11-15

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