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HYOSUNG Neochem Absolute Quality & Safety
HYOSUNG Neochem Absolute Quality & Safety
HYOSUNG Neochem Absolute Quality & Safety,HYOSUNG NEOCHEM ABSOLUTE QUALITY SAFETY
(文字:HYOSUNG NEOCHEM ABSOLUTE QUALITY SAFETY)
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商標權人
中文姓名
曉星股份有限公司
英文姓名
HYOSUNG CORPORATION
日文姓名
地址
南韓
國籍代碼
KR
國籍名稱
代理人
代理人
洪澄文
地址
臺北市南港區園區街3之2號3樓之2
代理人
洪茂
地址
臺北市南港區園區街3之2號3樓之2
商標基本資料
商標名稱
HYOSUNG Neochem Absolute Quality & Safety
註冊號
02257558
申請案號
110035132
商標種類
1-商標
(
說明
)
商標樣態
3-平面
(
說明
)
顏色描述
2-彩色
(
說明
)
圖樣中文
圖樣英文
HYOSUNG NEOCHEM ABSOLUTE QUALITY SAFETY
圖樣日文
圖樣記號
說明文字內容
聲明不專用
本件商標不就「Absolute Quality & Safety」文字主張商標權。
商標圖樣描述
商品服務類別
類別代碼
040
商品名稱
依據客戶委託及指示之規格從事氣體生產服務,尤指清潔半導體用高純度混合氣體、蝕刻半導體用高純度氮化合物、清潔螢幕顯示器用高純度混合氣體、清潔螢幕顯示器用高純度三氟化氮、清潔半導體設備用化學特殊氣體(燃料及醫療用氣體除外);依據客戶委託及指示之規格從事氣體加工服務,尤指清潔半導體用高純度混合氣體、蝕刻半導體用高純度氮化合物、清潔螢幕顯示器用高純度混合氣體、清潔螢幕顯示器用高純度三氟化氮、清潔半導體設備用化學特殊氣體(燃料及醫療用氣體除外);依據客戶委託及指示之規格從事氣體壓縮服務,尤指清潔半導體用高純度混合氣體、蝕刻半導體用高純度氮化合物、清潔螢幕顯示器用高純度混合氣體、清潔螢幕顯示器用高純度三氟化氮、清潔半導體設備用化學特殊氣體(燃料及醫療用氣體除外);依據客戶委託及指示之規格從事氣體淨化服務,尤指清潔半導體用高純度混合氣體、蝕刻半導體用高純度氮化合物、清潔螢幕顯示器用高純度混合氣體、清潔螢幕顯示器用高純度三氟化氮、清潔半導體設備用化學特殊氣體(燃料及醫療用氣體除外);石油氣液化服務;有害氣體處理;天然氣加工處理;天然氣精煉服務;半導體加工及封裝處理;半導體研磨處理;廢棄化學品再生處理;天然氣液化服務;以工業用化學品進行金屬表面處理;金屬表面被覆處理;利用物理蒸鍍或化學蒸鍍於金屬表面之被覆處理;礦物加工處理;化學品加工處理。
類似群組
371006、4004、4005、4007、4008、4019、4026、4027、421401
專用期限
2032-10-15
首次收文日
2021-5-18
申請日期
2021-5-18
註冊日期
2022-10-16
註冊公告日期
2022-10-16
審定公告日期
撤銷原因
無
異議狀況
無
評定狀況
無
舉發狀況
無
撤銷廢止狀況
無
授權狀況
無
再授權狀況
無
延展狀況
無
變更狀況
無
移轉狀況
無
提評狀況
無
報撤狀況
無
設定質權狀況
無
禁止處分狀況
無
公告卷數
049
實體審承辦人
林詩音
聲明
資料來源:經濟部智慧財產局公開資料
本頁內所載之資料,所載資料之完整性、即時性和正確性仍應以資料來源單位為準。