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CENTRAL GLASS 及圖

CENTRAL GLASS 及圖

CENTRAL GLASS 及圖,CENTRAL GLASS

(文字:CENTRAL GLASS)

商標權人

中文姓名	中央硝子股份有限公司
英文姓名	CENTRAL GLASS CO., LTD.
日文姓名
地址	日本
國籍代碼	JP
國籍名稱

代理人

代理人	陳長文
地址	臺北市信義區忠孝東路4段555號8樓

代理人	李文傑
地址	臺北市信義區忠孝東路4段555號8樓

商標基本資料

商標名稱

CENTRAL GLASS 及圖

註冊號

01991650

申請案號

107057685

商標種類

1-商標
(說明)

商標樣態

3-平面
(說明)

顏色描述

2-彩色
(說明)

圖樣中文

圖樣英文

CENTRAL GLASS

圖樣日文

圖樣記號

說明文字內容

聲明不專用

商標圖樣描述

商品服務類別

類別代碼	001
商品名稱	氟素樹脂；撓性氟塑料；油漆用氟樹脂；工業用黏著劑；肥料；相紙；感光紙；晒圖紙；膠捲；未曝光底片；照相用化學品；照相用感光性化學品；攝影用化學品；未加工塑膠［原型塑膠］、未加工合成樹脂；工業用化學品；科學用化學品；用於電子元件之填縫、密封、粘接及塗佈之玻璃膠；用於合成醫藥、農藥、液晶、電子化學材料、電子材料、光化學材料、化學試劑、化粧品及食品之中間體化學品；實驗用化學用試劑；可作為醫藥成分、農藥成分及化粧品成分所使用之化學品；表面活性劑；工業用防水劑；防止露水凝結用化學品；用於光阻劑之含氟單體及聚合物；製造油漆用之化學製劑；工業用鹽；含矽化合物；三甲基矽烷；四甲基矽烷；八甲基環四矽氧烷；二甲基二甲氧基矽烷；四甲基環四氧矽烷；四氟化矽；蘇打灰；氯化鈣；矽酸鈉；聚氯化鋁；硫酸鋁；氫氟酸；氟氣；含氟化合物及其鹽類；芳香族化合物；脂肪族化學品；三氟甲磺酸及其衍生物；氟化物；氟化氫；半導體用化學氣相沉積及原子層沉積製程用氣體及液態氣體；半導體製造設備、液晶製造設備及太陽能電池製造設備用之淨化氣體及蝕刻氣體；有機金屬化合物；氫氧化鋁；碳酸鋇；碳酸鈣；氟化鋁；氟化鋇；氟化鈣；氟化鎂；氟化鍶；碳酸鍶；三氟甲磺酸；三氟甲磺酸酐；三氟甲磺酸鋰；三氟甲磺醯基甲基鉀；三氟甲磺酸三氟乙酯；三氟甲磺酸鈉；氟化石墨；四氟乙烯寡聚物；電池用電解質；含電池用電解質之溶液；鎂合金鑄造用之不可燃保護氣體；植物生長調節劑；微生物土壤改良劑。
類似群組	0101、010101、010105、0102、0104、0105、0110、0111、0206、050401、091903、160101、1710、1717

專用期限

2029-6-15

首次收文日

2018-9-5

申請日期

2018-9-5

註冊日期

2019-6-16

註冊公告日期

2019-6-16

審定公告日期

撤銷原因

無

異議狀況

無

評定狀況

無

舉發狀況

無

撤銷廢止狀況

無

授權狀況

無

再授權狀況

無

延展狀況

無

變更狀況

無

移轉狀況

無

提評狀況

無

報撤狀況

無

設定質權狀況

無

禁止處分狀況

無

公告卷數

046

實體審承辦人

陳智瑜

聲明

資料來源：經濟部智慧財產局公開資料
本頁內所載之資料，所載資料之完整性、即時性和正確性仍應以資料來源單位為準。